雷射對抗高損傷閾值薄膜及雷射的防護
隨著近年來雷射技術(shù)的快速發(fā)展，雷射武器已經(jīng)逐漸由設想成為了現(xiàn)實。大功率雷射器作為定向能武器的出現(xiàn)，以及由此帶來的發(fā)射與防護等問題都對光學薄膜提出了新的、更高的要求。

首先，在大功率雷射武器系統(tǒng)中，用於反射或透射高能雷射的光學元件上的光學薄膜需要具有高損傷閾值，保證光學元件的正常工作。當高能雷射與武器的光學跟蹤瞄準系統(tǒng)共光路時，光學薄膜還要在保證高損傷閾值的同時，滿足雷射和跟瞄系統(tǒng)工作波段的光學性能。如果在開放式的系統(tǒng)中還要有良好的環(huán)境適應性。這些要求隨著雷射功率的提高，實現(xiàn)的難度將大幅度上升。因此，開展光學薄膜的雷射損傷機理研究，發(fā)展相關製備和測試技術(shù)是開發(fā)大功率雷射武器的必經(jīng)之路。
 
其次，由於雷射武器的發(fā)展，用於偵察、跟蹤、對抗等的光學系統(tǒng)面臨著越來越大的威脅。通過光學薄膜的方法發(fā)展的雷射防護技術(shù)是實現(xiàn)這些光學系統(tǒng)免受雷射武器傷害的有效途徑之一。在光學系統(tǒng)中，可以採用光學鍍膜的方法對光譜進行選擇性透過，將雷射波長過濾出去，使其不能進入光學系統(tǒng)內(nèi)部，系統(tǒng)可以免受傷害。